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Le Conseil national de recherches du Canada souhaite acquérir un (1) aligneur de masque KARL SUSS / MICROTEC MA 6, 4” – 6”, avec alignement face avant (TSA) et arrière (BSA), style Vintage 2001. Le processus de fabrication photonique du CFPC utilise un outil de photolithographie pour soutenir la fabrication de composants photoniques destinés à nos recherches et à nos clients externes. Dans notre centre de lithographie, nous avons besoin d’un système qui nous permette d’effectuer l’alignement face arrière sur nos substrats. L’appareil Karl/SUSS Microtec MA6 offre cette option. Le MA 6 possède des capacités d’alignement face arrière, essentielle pour les substrats avec des motifs imprimés des 2 côtés. Il est équipé d’un système d’alignement face arrière et du système d’alignement AL 300, composé de deux (2) microscopes vidéo indépendants positionnés sous le substrat.
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